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Gem Plasma Technology Co., Ltd.

均品科技股份有限公司

核心技術

核心技術

電極箔的鍍製,普遍使用高汙染的電化學腐蝕製程生產,而均品科技藉由氣流真空濺鍍控制分子結構,可以高效率在進材質表面形成多孔結構。

特徵優勢如以下特點:

  • 多孔結構形成高比表面積,電極體積容量為傳統電化學腐蝕製程4.5倍
  • 降低電極與電解液之介面阻抗
  • 可鍍製耐腐蝕層,極高電極耐化性
  • 可鍍製高介電常數之多孔鈦層,電容量為鋁質鍍層之4-8倍

專利技術

高效、可控、多孔結構

均品科技的鍍膜技術在鍍層結構可調性亦有助於多孔電極材料的發展,透過單一製程發展發展緻密、疏鬆、針葉狀與柱狀等結構,使此多孔電極材料可滿足高可靠度、高比表面積等目標。以R2R方式生產適合台灣ICT產業常用的電子材料,包含軟性銅箔基板、電池用電極箔,也包含環境淨化用電極應用。

產品與服務

公司理念

創新驅動,合作共贏。
提供行業領先的
解決方案

我們深耕鍍膜技術領域,以創新為核心驅動力,致力於開發關鍵材料,並以卓越的技術和創新精神,服務全球市場,為客戶創造更大價值。

企業合作

坤印科技股份有限公司

逢甲大學電漿科技研發中心 

產學合作

最新動態

均品科技股份有限公司
Gem Plasma Technology Co., Ltd.

台中市西屯區文華路100號(逢甲大學產學處學思樓807室) . 
TEL: 04-24529195. 

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